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设备制造商的无掩模直接成像光刻子系统
设备制造商的无掩模直接成像光刻子系统
无掩模成像制造是未来的技术趋势，它能将制造的灵活性、低使用成本、无掩模、高效率、高分辨率以及低至2um 的L/S光刻精度等各种特点，整合在一套稳定可靠且易于使用的系统中。
Visitech在全球范围内已经有数百套LLS光刻系统和1000多个曝光头在现场稳定运行，有效地验证了我们产品的工业可靠性。
Visitech凭借20多年的运用德州仪器公司DLP和DMD技术开发光引擎的经验，使我们成为世界上使用该技术最有经验的公司之一。
在Visitech，我们产品的光学、电学、光源、软件、硬件和固件都由自己设计、制造并测试，以确保产品在各个层面的完善。
Visitech的LLS系统可用于PCB、阻焊层(SM)、高密度互连（HDI）、内层、外层以及先进封装和异构Chiplet工具和设备。
Visitech与世界的设备和工具制造商合作，因为只有最好的才足够好。
选择VISITECH，您将获得最先进的高性价比数字图形投影成像光刻解决方案。我们致力于前沿的DLP（数字光处理）技术创新，与我们合作开发您的下一代产品，将使您能够实现极具创新且节约成本的设备制造工艺。
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