LUXBEAM光刻系统

LUXBEAM光刻系统(LLS)*是一种基于DLP的光刻系统,用于直接成像PCB和其他光刻应用。

一种用于直接成像光刻设备的子系统

LUXBEAM LITHOGRAPHY SYSTEM (以下简称LLS)*是提供给直接成像光刻设备制造商的子系统,可方便的集成在设备生产商的产品中,我们提供了详细的接口文档和现场技术支持。LLS 支持如下两个主要的细分市场。

PCB市场:

LLS10, LLS25LLS30 他们分别能做到 8-10um, 25um, 30um 的线宽/线间距。

他们都使用的是多波长LED光源(可覆盖350nm到440nm),所有的光源都能做到高能量的输出,满足客户高速生产的要求。

先进封装/ 半导体后端市场:

LLS 2500能做到2-3um的线宽/线间距,适用于晶圆片(FOWLP)和面板(FOPLP)封装以及晶圆片后端应用。
LLS04能做到3-5um的线宽/线间距,适用于晶圆片(FOWLP)和面板(FOPLP)封装以及晶圆片后端应用。
LLS10能做到8-10um的线宽/线间距,适用于晶圆片(FOWLP)和面板(FOPLP)封装以及晶圆片后端应用。

LLS 2500和LLS 04采用高功率405纳米激光光源,最大限度地提高光功率和图像质量。所有的光源都能做到高能量的输出,满足客户高速生产的要求。

LLS2500

LLS2500
2um的线宽与线间距

LLS04
4um的线宽与线间距

LLS10
10um的线宽与线间距

LLS25
25um的线宽与线间距

LLS30
30um的线宽与线间距

高产能

光刻机具有相当高功率的UV光能量输出,再加上高速数据传输接口和超高帧率的DLP,能够使设备具有相当高的产能。

10Gbit的高速无损数据传输速率

LLS在工作之前可预先把图像数据存储在机器中,多任务时也可预先存储所有任务的数据。这比边工作边加载图像的设备能节省大量的时间。LLS可实时进行图像的放大缩小以及旋转变换。LLS拥有高达10Gbit的传输速率,因此,可以大大提升工作的效率。

图像的即时缩放和扭曲

LLS支持Gerber和ODB++文件格式。
LLS系统每次加载新的文件只需要数秒,而缩放与扭曲的处理在开始打印的时候可以实时完成。LLS的此项功能允许LLS用在全自动多台面的设备上,通过边曝光边对位,从而提高产能。

自动对焦和跟踪系统

由于PCB板材表面并非一个完全平整的平面,所以Visitech开发了该实时自动对焦和跟踪系统,搭配Z轴马达的设计。自动对焦系统可以保证完美的曝光效果。自动对焦系统可以让产品应用于内外层线路和阻焊层。

同时,Z轴的设计也有两种不同的版本,客户可依据自己的精度与速度的需求选择合适自己的版本。

低维护成本

相比较于传统的激光光源,DLP,LED以及激光二极管光源都具有超长的工作寿命,我们的产品在整个生命周期中只需要非常低的后期维护成本。

多波长UV LED光源

LLS50,LLS25, LLS10采用了多波长UV LED作为光源,涵盖范围从350nm到440nm,结合投影镜头的大焦深,使LLS可以用在内外层线路和阻焊层上。

激光二极管光源

LLS04配备大功率405nm激光二极管光源。

LED光源的快捷更换以及自动校准技术

多波长LED/激光光源能单独作为一个模块从LLS中拆下来,并且客户能自行更换模块上的LED。LLS能自动读到LED的测试数据,并进行校准,从而保证每一个LLS能输出相同的能量。该功能使机器终端用户无需等待服务人员到现场,即可进行光源的交换。

光学多路复用技术(Optical Multiplexing Technology)

LLS是在VISITECH独有的光学多路复用专利技术(Optical Multiplexing Technology)的基础上开发而成的,得以在滚动扫描的过程中实现亚像素化SPX(Sub-pixelation)。

像素能量控制(Pixel Power Control)

LLS的单像素能量输出控制技术PPC(Pixel Power Control)可以精确的控制每一个像素的能量输出,保证曝光材料受到均匀的能量照射。

精密光学

LLS所采用的光学多路复用技术对光学性能和组装都提出了很高要求。VISITECH特意为此开发了一套镜片组装工艺,从而可以保证每个镜片在XY方向都可以达到微米级的精度控制。

我们有现成的LLS系统,随时可以为客户进行演示和PCB/晶圆样品打样,以便客户评估其性能和产能。

内置定位相机**

对于像FOWLP和FOPLP这样的高级包装,高精度的定位是非常重要和必要的。通常,定位误差要求低于1 um。这对于光学机械结构来说,是一项巨大的挑战。LLS2500和LLS04的内置定位相机,位于投影镜头的后方,与光刻机共享投影镜头的光学系统,因此能够非常准确地对准基准以及确定压模的位置/旋转。

此外,该内部定位相机还可用于校准安装在同一设备上的外部定位相机,因为外部定位相机与光刻机不共享光学系统。

(*)代表已获得和正在申请的专利